1.完善先进的研发手段
公司研发中心拥有先进的硬件设备及各种专业软件，为公司产品研发、设计创造了良好的条件；并且开展芯片的版图设计，纵向结构设计，对制造工艺参数进行计算机模拟；同时与公司现有工艺生产线紧密配合,使新的设计迅速通过工艺生产线得到验证,从而进一步改进和优化设计。
2.引进先进的工艺装备
公司拥有从奥地利微系统公司（AMS公司）及日本NEC引进的完整的MOS工艺生产线，其中步进光刻机为日本尼康公司的NSR-2005i10C，适用0.45微米线宽的大规模集成电路光刻；离子注入机为美国伊顿公司的GSD200（注入功率200KeV），GSD-HE（注入功率1MeV），是到目前为止世界上******的微电子专用设备之一，CVD设备为现今最主流的美国应用材料公司（AMAT）的P5000设备。生产线完整地配备了各种检测设备仪器，包括HITACHI的S-8820扫描电子显微镜、NANOMETRIX的UV216S/OS2表面状态分析仪、IVS的IVS120关键尺寸检测仪等非常先进昂贵的检测仪器。